仪器名称：磁控溅射台
英文名称：High Vacuum Magnetron Sputtering System
仪器编号：YQ2015008588
所属单位：理学院
生产厂家：沈阳科学仪器股份有限公司
规格型号：JGP－450
价值（万元）：27
购置日期：2015年12月7日
主要技术指标：标配3套寸永磁磁控靶，直流/射频兼容，基片可加热，常规最高 600℃，极限真空 ≤6.67×10⁻⁵ Pa。
主要功能：金属/氧化物/半导体功能薄膜沉积
仪器地点：1#教学楼B座1207
联系人：张涛
电子邮箱：tzhang#xust.edu.cn
